大约有2,000项符合查询结果项。（搜索耗时：0.0125秒）
为您推荐：
计算光刻与版图优化
韦亚一 计算光刻与版图优化
韦亚一 计算光刻与版图优化m
认知计算与多目标优化
半导体先进光刻理论与技术
集成电路与光刻机
-
（苏）安德烈耶雪夫，М.М.著；马中汉译1959 年出版173 页ISBN：15040·1219
-
（德）布莱希（Fr.Bleich），陈英俊译1959 年出版258 页ISBN：15043·1081
-
（苏）莫洛科夫，М.В.，（苏）施果林，Г.Г著；谢锡爵，张中和译1959 年出版343 页ISBN：
-
（苏）斯科洛杜莫夫（Г.Е.）著；王世馥译1959 年出版144 页ISBN：
-
（苏）奥列夫斯基，В.А.著；东北工学院矿山机械制造室研究室译1959 年出版120 页ISBN：15062·1811
-
（苏）郭洛什柯夫，И.Х.编；刘光文，彭泽来译1959 年出版340 页ISBN：15143·1093
-
（苏联）B.H.维舍涅夫斯基著；沈越昭译1959 年出版63 页ISBN：15119·186
-
程永吉编著1959 年出版196 页ISBN：15062·1782
-
杨柳青编著1959 年出版117 页ISBN：15035·941
-
苏联化学工业部轮胎工业科学研究院编；化学工业部橡胶工业研究设计院技经室译1959 年出版146 页ISBN：
