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超大规模集成电路先进光刻理论与应用
韦亚一著2016 年出版578 页ISBN：9787030482686光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。本书覆盖现代光刻技术的重要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺。在设备部分，对业界使用...
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先进半导体材料性能与数据手册
（俄）Michael E.Levinshtein等编；杨树人，殷景志译2003 年出版268 页ISBN：7502547460本书介绍了半导体材料应用十分广泛、介绍了六种先进半导体材料的性能与数据。
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