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多弧离子镀沉积过程的计算机模拟
赵时璐著2013 年出版232 页ISBN:9787502462277本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟研究。全书共分13章:第1章为绪论部分;第2章为真空镀膜技术的介绍;第3章为多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础;第4章为多弧离子镀物理过程的分析;第5章为计算机模拟...
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